濕蝕刻
服務項目:
  1.氧化矽蝕刻、含磷氧化矽蝕刻、含硼氧化矽蝕刻,10:1 HF溶液,常溫。
  2.鋁蝕刻:鋁蝕刻液,50℃數位溫控。
  3.氮化矽蝕刻:磷酸,150℃數位溫控。
  4.光阻去除:硫酸+雙氧水(化學站二),120℃數位溫控。
  5.ITO薄膜蝕刻:草酸(爐管清洗區),60℃數位溫控。
收費標準:
    1.委託代工:以每一Run 25片計算。未滿一個Run,以一Run計,每一Run 1,500元。
    2.自行操作:每一次900元。