濕蝕刻
●服務項目：
1.氧化矽蝕刻、含磷氧化矽蝕刻、含硼氧化矽蝕刻，10:1 HF溶液，常溫。
2.鋁蝕刻：鋁蝕刻液，50℃數位溫控。
3.氮化矽蝕刻：磷酸，150℃數位溫控。
4.光阻去除：硫酸+雙氧水（化學站二），120℃數位溫控。
5.ITO薄膜蝕刻：草酸（爐管清洗區），60℃數位溫控。
●收費標準：     1.委託代工：以每一Run 25片計算。未滿一個Run，以一Run計，每一Run 1,500元。     2.自行操作：每一次900元。