氧化／擴散系統(Oxidation/Diffusion System)

●主要規格：

Wafer Size :

4" silicon Wafer

Temperature:

100 ~ 1100℃

●服務項目：

Wet Oxide                                 

Dry Oxide                                

Low Temperature Oxide           

●注意事項：

2.

●收費標準：學術單位減500元代工費。

委託代工：
    每Run 25片。含標準清洗（四吋含清洗費，其它尺寸清洗費另計），標準清洗25片一RUN。

一次送50片打     9折
一次送75片打   85折
一次送100片打   8折

濕氧製程：
水蒸氣式，非氫氧點火式，25片一RUN。

1000A          ：3800元

2000A          ：4000元
3000A          ：4200元
4000A          ：4500元
5000A          ：5000元
6000A          ：5600元
7000A          ：6300元
8000A          ：7100元
9000A          ：8000元
1.0um           ：9000元
1.2um           ：13000元
1.5um           ：17000元
1.7um           ：19000元
2.0um           ：22000元

1100℃乾氧製程：
通純氧，25片一RUN。

1000A ：5000元
2000A ：9000元

關鍵字：高溫爐管、成長二氧化矽、SiO2、濕氧、乾氧、磷擴散、硼擴散、退火製程、Alloy製程