ABM光罩雙面對準系統(ABM Mask Aligner System)

廠商:
AB-M, Inc.

代理商:
昇美達國際開發有限公司

●主 要 規 格:
    1.Contact printing
    2.Wave length 365nm,400nm
    3.Mask holder 4"×4", 5"×5", 7"×7"
    4.Resolution 0.8μm
    5.可做八吋以下晶圓或破片

注意事項:請詳細註明光阻劑之種類及欲上光阻之厚度。

服務項目與收費標準:(蝕刻費用另計)

1.委託代工:
   (1).4吋一道mask 厚光阻每片多加500元,雙面對準為以下價格每片多500元,雙面對準鍵的位置如下圖。

        學術單位:700/+1,500元耗材費(5/run)

        非學術單位:1000/+1,500元耗材費(5/run)  


        6
吋一道mask

       學術單位:

                     光阻厚度2um以下,1000/+1,500元耗材費(5/run)  

                     光阻厚度2um以上,1500/+1,500元耗材費(5/run)

       非學術單位:

                     光阻厚度2um以下,1500/+1,500元耗材費(5/run)  

                     光阻厚度2um以上,2000/+1,500元耗材費(5/run)  

 

       8吋一道mask

       學術單位:

                     光阻厚度2um以下,3500/+1,500元耗材費(5/run)  

                     光阻厚度2um以上,4000/+1,500元耗材費(5/run)

       非學術單位:

                     光阻厚度2um以下,4000/+1,500元耗材費(5/run)  

                     光阻厚度2um以上,4500/+1,500元耗材費(5/run)  

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

   (2).選擇性製程收費如下,每次製程另酌收1000元耗材與清洗基本費用。
        S1813 正光阻(含HMDS ) : 250元/Layer /片
         對準曝光操作 : 350元/Layer /
         顯影 : 200元/Layer /
         光罩清洗 : 300元/Layer /
         晶片烘烤(含預、軟、硬烤) : 250元/Layer /片
   (3).Lift OFF製程,依製程困難度報價。
2.自行操作:

●負責人:彭毅明先生,電話:03-5722644、03-5715131-34048










關鍵字:黃光室、單面對準機、光罩對準機、黃光製程、顯影、預烤、軟烤、硬烤、Hot Plate、烤箱