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光阻製程罩幕對準系統(Photoresist Processing & Mask Aligner System)
廠 牌：
Karl Suss MA-4
Canon PLA-501F
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| ●主
要 規 格： |
| 1.Contact printing |
| 2.Wave length 365nm,400nm |
| 3.Mask holder
5"×5" |
| 4.Resolution
2∼5μm |
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●注意事項：請詳細註明光阻劑之種類及欲上光阻之厚度。
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●服務項目與收費標準：(蝕刻費用另計)
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| 1.委託代工： |
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(1).整套黃光製程包括下列程序，每RUN
5片計，每片收費500元，厚膜光阻(15um以上)每片1000元，每次製程(每道光罩)另酌收1500元耗材與清洗基本費用。 |
| (2).選擇性製程收費如下，每次製程另酌收1000元耗材與清洗基本費用。 |
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S1813 正光阻(含HMDS )
: 150元/Layer /片 |
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對準曝光操作 :
250元/Layer /片 |
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顯影 :
100元/Layer /片 |
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光罩清洗 :
200元/Layer /片 |
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晶片烘烤(含預、軟、硬烤)
: 150元/Layer /片 |
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(3).脫膜製程2000元/8片 |
| 2.自行操作：每分鐘10元。 |
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| 關鍵字：黃光室、單面對準機、光罩對準機、黃光製程、顯影、預烤、軟烤、硬烤、Hot
Plate、烤箱 |
